韓国半導体市場を独占するシリコンウエハのアウトガス捕集装置
 
特長
シリコンウエハの8インチ及び6インチ表面の揮発性成分（有機汚染物質）の捕集ができます。（SW-8400IIIDF）
 
シリコンウエハの12インチ表面の揮発性成分（有機汚染物質）の捕集ができます。
（SW-12400IIIDF）
 
捕集管トラップ方式採用のため、デッドボリュームがなく、微量成分検出が可能です。
 
確実に表面からのみの発生ガスを捕集し、裏面からの発生ガスは真空ポンプにより全量放出します。
 
ウエハをダイレクトに加熱、最高温度は500℃を実現しました。（焼き出し時）
 
シーケンスコントロール（タッチパネル）を採用。操作が容易になりました。
 
アウトガスはPAT（内容積10mL、テナックスGR吸着剤入り）による捕集が標準です。オプションで各メーカの捕集管にも対応します。
 
過昇温防止装置、ドアインターロック機構、緊急停止スイッチ、漏水センサー（オプション）などの安全対策がなされております。
 
オプションで多段昇温捕集、スプリット捕集、試料管電子冷却（捕集時）が可能です。